CVD气相沉积炉公司
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设备概述:化学气相沉积(CVD)炉(半导体行业专用)用于晶圆级薄膜沉积的关键工艺装备技术特点:高纯度薄膜沉积(纯度>99.9999%,颗粒污染<0.1个/cm²)原子级厚度控制(±1Å精度,支持1-500nm薄膜)多